等离子清洗机通常使用许多不同的气体，如氧气、氢气、氮气、压缩空气或氩气。那么为什么要使用这种气体，它在等离子清洗机设备中的作用是什么？ 氩是惰性气体，离子化的等离子体不会与衬底发生化学反应。在等离子体清洗中，氩气主要用于基片表面的物理清洗和表面粗糙化。因此，氩等离子清洗机广泛应用于半导体行业、微电子行业和晶圆制造行业。

清洁表面。 在清洗晶圆、玻璃等产品表面颗粒的过程中，通常采用等离子体轰击材料表面的颗粒，使颗粒分散疏松，然后进行离心清洗等处理过程，会产生显著的效果。这在半导体封装应用中尤为突出。为了防止引线键合过程后引线的氧化，应使用氩等离子体或氩氢等离子体清洗产品表面，以达到更好的产品处理效果。

氩气泄漏的处理措施。 迅速将泄漏污染区的人员撤离至上风处，并进行隔离，严格限制出入。建议应急响应人员穿戴自给式正压呼吸器和普通工作服。尽可能切断泄漏源。合理通风，加速扩散。泄漏的容器应在使用前进行适当的处理、修理和检查。